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Tel:19337881562Web 结果16B高精度双面研磨/抛光机. 机械尺寸. 长2329㎜×宽1564㎜×高2820㎜. 机械重量. 5800KG. 参数表. 加工参数. 其他参数. 产品特点. 采用4-Motor运动方式即上定盘、下 16B高精度双面研磨/抛光机_浙江森永光电设备有限公司Web 结果16B高精度双面研磨/抛光机. 机械尺寸. 长2329㎜×宽1564㎜×高2820㎜. 机械重量. 5800KG. 参数表. 加工参数. 其他参数. 产品特点. 采用4-Motor运动方式即上定盘、下
查看更多Web 结果16B-5L/P 定盘尺寸 研磨(mm) Φ1175.5XΦ541Xt50 Φ1125XΦ393Xt50 抛光(mm) Φ1192XΦ526Xt50 Φ1154XΦ364Xt50 游星轮参数 模数 DP12 M3/DP12 齿数 Z168 16B 高精度双面研磨/抛光机_名正(浙江)电子装备有限公司Web 结果16B-5L/P 定盘尺寸 研磨(mm) Φ1175.5XΦ541Xt50 Φ1125XΦ393Xt50 抛光(mm) Φ1192XΦ526Xt50 Φ1154XΦ364Xt50 游星轮参数 模数 DP12 M3/DP12 齿数 Z168
查看更多Web 结果采用三电机驱动, 用下盘电机(7.5KW/1440r/min)带动下研磨盘和齿圈;用上盘电机(7.5KW/1440r/min)带动上研磨盘;用小电机(2.2KW/1440r/min)带动太阳轮。. 2.5. 采用亚德客生产的气动执 双面研磨机(16B机型)-深圳赛贝尔自动化设备有限公司Web 结果采用三电机驱动, 用下盘电机(7.5KW/1440r/min)带动下研磨盘和齿圈;用上盘电机(7.5KW/1440r/min)带动上研磨盘;用小电机(2.2KW/1440r/min)带动太阳轮。. 2.5. 采用亚德客生产的气动执
查看更多Web 结果2023年8月2日 柯一薇 . 晶圆减薄工艺是半导体器件制造中的一项关键工艺,它的主要作用是在晶圆的背面进行研磨,将硅材料减薄,以便进行芯片的加工和封装。 晶圆 晶圆减薄工艺小结-机械背面研磨和抛光工艺及设备 - 知乎Web 结果2023年8月2日 柯一薇 . 晶圆减薄工艺是半导体器件制造中的一项关键工艺,它的主要作用是在晶圆的背面进行研磨,将硅材料减薄,以便进行芯片的加工和封装。 晶圆
查看更多Web 结果主要技术参数: 1、研磨盘尺寸:1400mm×450mm×50mm. 2、游星片参数:公制M=2 Z=212. 英制DP12 Z=200. 3、游星片数量:5片. 4、“”研磨直径:450mm. 日本hamai 16B双端面抛光机 双面平磨抛光机-阿里巴巴Web 结果主要技术参数: 1、研磨盘尺寸:1400mm×450mm×50mm. 2、游星片参数:公制M=2 Z=212. 英制DP12 Z=200. 3、游星片数量:5片. 4、“”研磨直径:450mm.
查看更多Web 结果16B双面研磨/抛光机 规格 研磨盘外径:1,125 mm 夹具(游星轮)直径:426 mm 夹具(游星轮)数量:5 SETS 加压方式:空压缸加压 ... 美、日原厂50年专业技术,在台生产, 产品介绍-SPEEDFAMWeb 结果16B双面研磨/抛光机 规格 研磨盘外径:1,125 mm 夹具(游星轮)直径:426 mm 夹具(游星轮)数量:5 SETS 加压方式:空压缸加压 ... 美、日原厂50年专业技术,在台生产,
查看更多Web 结果2020年12月25日 4.1关键部件. 4.1.1 研磨机应符合本标准要求, 并按经规定程序批准的图样及技术文件制造。. 4.1.2 铸件参照JB/T 5000.4、锻 件参照JB/T 5000.8、焊 接 DLM 型双面研磨机Web 结果2020年12月25日 4.1关键部件. 4.1.1 研磨机应符合本标准要求, 并按经规定程序批准的图样及技术文件制造。. 4.1.2 铸件参照JB/T 5000.4、锻 件参照JB/T 5000.8、焊 接
查看更多Web 结果2015年3月12日 16B双面研磨机 的工作原理及特点:. 近年来,国内外市场对硅片,砷化钾片、陶瓷片、石英晶体及其它硬脆性半导体材料,大直径、高精度、高效率的 16B双面研磨机的工作原理及特点Web 结果2015年3月12日 16B双面研磨机 的工作原理及特点:. 近年来,国内外市场对硅片,砷化钾片、陶瓷片、石英晶体及其它硬脆性半导体材料,大直径、高精度、高效率的
查看更多Web 结果YDL-16B5 双面研磨机 YDC-16B5 双面抛光机 设备尺寸( mm ) 2374(W)*2011(L)*2878(H) 2374(W)*2011(L)*2878(H) 设备重量( kg) 6,500 6,500 上 16B/22B双面研磨/抛光机Web 结果YDL-16B5 双面研磨机 YDC-16B5 双面抛光机 设备尺寸( mm ) 2374(W)*2011(L)*2878(H) 2374(W)*2011(L)*2878(H) 设备重量( kg) 6,500 6,500 上
查看更多Web 结果16B研磨机参数. 日本创技28B双面抛光机,二手3D玻璃扫光机出售,二手日本HAMAL16B双面抛光机等系列游轮参数:英制: Z=200 DP12 主电机: 380V/15KW/1460rpm 下研磨盘跳动 :0工厂转让 日本hamai 16B双面抛光机 平面研磨机本机主要用于硅片、砷化钾片、陶瓷片、石英晶体、玻璃及 ... 16B研磨机参数Web 结果16B研磨机参数. 日本创技28B双面抛光机,二手3D玻璃扫光机出售,二手日本HAMAL16B双面抛光机等系列游轮参数:英制: Z=200 DP12 主电机: 380V/15KW/1460rpm 下研磨盘跳动 :0工厂转让 日本hamai 16B双面抛光机 平面研磨机本机主要用于硅片、砷化钾片、陶瓷片、石英晶体、玻璃及 ...
查看更多Web 结果硅片双面研磨加工技术研究-介绍了硅片双面研磨的目的.重点分析了不同工艺参数对硅片研磨速率及表面质量的影响。 通过不同粒径磨料的对比试验,得出减小磨料粒径能够有效改善硅片表面质量,减小损伤层深度,为后道抛光工序去除量的减少提供了条件,并且对实际生产工艺具有指导意义。 硅片双面研磨加工技术研究_百度文库Web 结果硅片双面研磨加工技术研究-介绍了硅片双面研磨的目的.重点分析了不同工艺参数对硅片研磨速率及表面质量的影响。 通过不同粒径磨料的对比试验,得出减小磨料粒径能够有效改善硅片表面质量,减小损伤层深度,为后道抛光工序去除量的减少提供了条件,并且对实际生产工艺具有指导意义。
查看更多Web 结果磨抛技术. 磨抛样品. 方达新闻. 联系方达. 18926019828. 方达研磨从事硅片研磨机,硅片抛光机开发20年,对硅片的研磨和抛光工艺有较深的造诣,平面度厚度公差可达1um,粗糙度纳米级! 硅片研磨机抛光机_深圳市方达研磨技术有限公司Web 结果磨抛技术. 磨抛样品. 方达新闻. 联系方达. 18926019828. 方达研磨从事硅片研磨机,硅片抛光机开发20年,对硅片的研磨和抛光工艺有较深的造诣,平面度厚度公差可达1um,粗糙度纳米级!
查看更多Web 结果双面研磨抛光系列. 一、设备用途1.1. 本设备特别适用于玻璃、硅片、蓝宝石及金属或非金属的研磨或抛光。. 二、设备结构特点2.1. 创新是设计的基本理念,本设备在设计时认真分析和比较了国内外同类设备的结构、控制和功能特点,综合、归纳并采用了众多 ... 双面研磨机(16B机型)-深圳赛贝尔自动化设备有限公司Web 结果双面研磨抛光系列. 一、设备用途1.1. 本设备特别适用于玻璃、硅片、蓝宝石及金属或非金属的研磨或抛光。. 二、设备结构特点2.1. 创新是设计的基本理念,本设备在设计时认真分析和比较了国内外同类设备的结构、控制和功能特点,综合、归纳并采用了众多 ...
查看更多Web 结果D-16B双面研磨机适用范围: 蓝宝石基片、光学光电子材料、触屏玻璃、盖板玻璃、硅片、陶瓷片等非金属的双面研磨抛光 .不锈钢.铝合金,钼片等金属材质双面研磨抛光。HD-16B双面研磨机性能特点: 1.本机主体采用一次成型工艺,合理的结构大大提升 研磨机-HD-16B双面研磨机/双面抛光机_产品详情 - 粉体网Web 结果D-16B双面研磨机适用范围: 蓝宝石基片、光学光电子材料、触屏玻璃、盖板玻璃、硅片、陶瓷片等非金属的双面研磨抛光 .不锈钢.铝合金,钼片等金属材质双面研磨抛光。HD-16B双面研磨机性能特点: 1.本机主体采用一次成型工艺,合理的结构大大提升
查看更多Web 结果2021年7月13日 日本创技16B硅片抛..本公司低价转让一批日本SPEEDFAM 双面抛光机,型号:E16B 21B 24B 28B 1、 研磨盘尺寸: φ1126mm×φ388mm×50mm 2、 最大研磨直径: 【图片】日本创技16B硅片抛光机 硅片研研磨机 硅片平磨机 镜片减溥机【贴吧吧】_百度贴吧 【图片】日本创技16B硅片抛光机 硅片研研磨机 硅片平磨机 ...Web 结果2021年7月13日 日本创技16B硅片抛..本公司低价转让一批日本SPEEDFAM 双面抛光机,型号:E16B 21B 24B 28B 1、 研磨盘尺寸: φ1126mm×φ388mm×50mm 2、 最大研磨直径: 【图片】日本创技16B硅片抛光机 硅片研研磨机 硅片平磨机 镜片减溥机【贴吧吧】_百度贴吧
查看更多Web 结果1总则. 1.1本技术规范适用于南钢产业发展有限公司燃料供应厂焦炉烟气脱硫脱硝项目的研 磨输送系统(空气分级磨)。. 1.2本技术规范包括研磨机 (空气分级磨)系统的本体及其辅助设备系统的功能设计、 结构、性能、安装和试验等方面的技术要求。. 10.负压 ... 研磨机技术规格书(20171127) - 百度文库Web 结果1总则. 1.1本技术规范适用于南钢产业发展有限公司燃料供应厂焦炉烟气脱硫脱硝项目的研 磨输送系统(空气分级磨)。. 1.2本技术规范包括研磨机 (空气分级磨)系统的本体及其辅助设备系统的功能设计、 结构、性能、安装和试验等方面的技术要求。. 10.负压 ...
查看更多Web 结果2021年2月6日 HD-16B双面研磨机适用于蓝宝石基片、光学光电子材料、触屏玻璃、盖板玻璃、硅片、陶瓷片等非金属的双面研磨抛光 .不锈钢.铝合金,钼片等金属材质双面研磨抛光。 二、设备工作原理 三、16B双面研磨机技术参数 研磨盘尺寸 双面研磨机_海德研磨抛光机Web 结果2021年2月6日 HD-16B双面研磨机适用于蓝宝石基片、光学光电子材料、触屏玻璃、盖板玻璃、硅片、陶瓷片等非金属的双面研磨抛光 .不锈钢.铝合金,钼片等金属材质双面研磨抛光。 二、设备工作原理 三、16B双面研磨机技术参数 研磨盘尺寸
查看更多Web 结果【摘 要】硅片切割之后,即进行精加工,以去除内圆磨割痕迹,提高表面微观质量,减少表面弯曲。半导体工业中普遍采用的精加工方法有双面研磨、磨削工艺,近来又研制成功旋转磨削新工艺。一、双面研磨 1.双面研磨的主要特征双面研磨是硅片制造中已确认的工艺。 硅片研磨与磨削加工 - 百度文库Web 结果【摘 要】硅片切割之后,即进行精加工,以去除内圆磨割痕迹,提高表面微观质量,减少表面弯曲。半导体工业中普遍采用的精加工方法有双面研磨、磨削工艺,近来又研制成功旋转磨削新工艺。一、双面研磨 1.双面研磨的主要特征双面研磨是硅片制造中已确认的工艺。
查看更多Web 结果单晶硅双面研磨机工艺参数优化研究. 单晶硅作为硅材料的代表,在半导体器件领域应用广泛.研磨是单晶硅加工的关键工序,是硅片制造领域技术突破的必经之路.为提升企业自主研发单晶硅双面研磨设备的生产效率及成品硅片的质量,本次研究针对研磨工序的主要 单晶硅双面研磨机工艺参数优化研究 - 百度学术Web 结果单晶硅双面研磨机工艺参数优化研究. 单晶硅作为硅材料的代表,在半导体器件领域应用广泛.研磨是单晶硅加工的关键工序,是硅片制造领域技术突破的必经之路.为提升企业自主研发单晶硅双面研磨设备的生产效率及成品硅片的质量,本次研究针对研磨工序的主要
查看更多Web 结果3)磨片中的技术参数 a. 硅片厚度和总厚度变化TTV。 b. 表层剪除层的厚度。 ... 研磨机的结构电机控制电脑研磨液机座硅片研磨机的 组成双面研磨机磨盘研磨传动机构机座研磨液系统控制系统主轴转动上磨盘升降行星运动磨速控制研磨机磨盘表面硬度高 ... 硅片的倒角研磨和热处理介绍 - 百度文库Web 结果3)磨片中的技术参数 a. 硅片厚度和总厚度变化TTV。 b. 表层剪除层的厚度。 ... 研磨机的结构电机控制电脑研磨液机座硅片研磨机的 组成双面研磨机磨盘研磨传动机构机座研磨液系统控制系统主轴转动上磨盘升降行星运动磨速控制研磨机磨盘表面硬度高 ...
查看更多Web 结果三辊研磨机技术参数- 三辊研磨机技术参数一、设备概述三辊研磨机是一种常用的粉体加工设备,广泛应用于化工、涂料、颜料、食品、医药等领域。该设备由三个研磨辊组成,通过辊与辊之间的相对运动,对物料进行研磨和混合,实现细化和均质化处理 ... 三辊研磨机技术参数 - 百度文库Web 结果三辊研磨机技术参数- 三辊研磨机技术参数一、设备概述三辊研磨机是一种常用的粉体加工设备,广泛应用于化工、涂料、颜料、食品、医药等领域。该设备由三个研磨辊组成,通过辊与辊之间的相对运动,对物料进行研磨和混合,实现细化和均质化处理 ...
查看更多Web 结果FD7004PA硅片研磨机 主要用途: 本设备主要用于蓝宝石衬底、蓝宝石外延片、硅片、陶瓷、石英晶体、其他半导体材料等薄形精密零件的单面高精密研磨及抛光。 设备特点:1.本设备为单面精密研磨设备,采用先进的机械结构和控制方法,研磨加工效率 FD7004PA硅片研磨机 - 硅片研磨抛光机 - 深圳市方达研磨 ...Web 结果FD7004PA硅片研磨机 主要用途: 本设备主要用于蓝宝石衬底、蓝宝石外延片、硅片、陶瓷、石英晶体、其他半导体材料等薄形精密零件的单面高精密研磨及抛光。 设备特点:1.本设备为单面精密研磨设备,采用先进的机械结构和控制方法,研磨加工效率
查看更多Web 结果16B双面研磨/抛光机 规格 研磨盘外径:1,125 mm 夹具(游星轮)直径:426 mm 夹具(游星轮)数量:5 SETS 加压方式:空压缸加压 ... 美、日原厂50年专业技术,在台生产, 提供完整加工技术服务。 适用于需两面同时加工,磁性、非磁性或金属、非金属、陶瓷、高 产品介绍-SPEEDFAMWeb 结果16B双面研磨/抛光机 规格 研磨盘外径:1,125 mm 夹具(游星轮)直径:426 mm 夹具(游星轮)数量:5 SETS 加压方式:空压缸加压 ... 美、日原厂50年专业技术,在台生产, 提供完整加工技术服务。 适用于需两面同时加工,磁性、非磁性或金属、非金属、陶瓷、高
查看更多Web 结果16B-5L/P 定盘尺寸 研磨(mm) Φ1175.5XΦ541Xt50 Φ1125XΦ393Xt50 抛光(mm) Φ1192XΦ526Xt50 Φ1154XΦ364Xt50 游星轮参数 模数 DP12 M3/DP12 齿数 Z168 Z142/Z200 节圆(mm) 355.6 426/423.3 驱动方式 3马达 4马达 游星轮张数 7 5 最大加工 16B 高精度双面研磨/抛光机_名正(浙江)电子装备有限公司Web 结果16B-5L/P 定盘尺寸 研磨(mm) Φ1175.5XΦ541Xt50 Φ1125XΦ393Xt50 抛光(mm) Φ1192XΦ526Xt50 Φ1154XΦ364Xt50 游星轮参数 模数 DP12 M3/DP12 齿数 Z168 Z142/Z200 节圆(mm) 355.6 426/423.3 驱动方式 3马达 4马达 游星轮张数 7 5 最大加工
查看更多Web 结果阿里巴巴二手 8成新兰州瑞德抛光机16b双面晶体硅片金属抛光研磨机,玻璃机械,这里云集了众多的供应商,采购商,制造商。这是二手 8成新兰州瑞德抛光机16b双面晶体硅片金属抛光研磨机的详细页面。订货号:1,加工定制:是,货号:16b,品牌:准纳光电,型号:16b,功率:1(Kw),重量:1(kg),最小 ... 二手 8成新兰州瑞德抛光机16b双面晶体硅片金属抛光研磨机Web 结果阿里巴巴二手 8成新兰州瑞德抛光机16b双面晶体硅片金属抛光研磨机,玻璃机械,这里云集了众多的供应商,采购商,制造商。这是二手 8成新兰州瑞德抛光机16b双面晶体硅片金属抛光研磨机的详细页面。订货号:1,加工定制:是,货号:16b,品牌:准纳光电,型号:16b,功率:1(Kw),重量:1(kg),最小 ...
查看更多Web 结果热处理. 倒角:通过金刚石砂轮对硅片边缘进行打磨, 使其边缘钝圆光滑,而不易破碎。. 研磨:采用磨料研磨的方式,对硅片表面进 行磨削,将表面损伤层减薄,获得较平整表 面,为抛光创造条件。. 磨片:多线切割以后的硅片,表面有一定 的损伤层,(存 硅片的倒角研磨和热处理介绍 - 百度文库Web 结果热处理. 倒角:通过金刚石砂轮对硅片边缘进行打磨, 使其边缘钝圆光滑,而不易破碎。. 研磨:采用磨料研磨的方式,对硅片表面进 行磨削,将表面损伤层减薄,获得较平整表 面,为抛光创造条件。. 磨片:多线切割以后的硅片,表面有一定 的损伤层,(存
查看更多Web 结果磨抛技术. 磨抛样品. 方达新闻. 联系方达. 18926019828. 方达研磨从事硅片研磨机,硅片抛光机开发20年,对硅片的研磨和抛光工艺有较深的造诣,平面度厚度公差可达1um,粗糙度纳米级! 硅片研磨机抛光机_深圳市方达研磨技术有限公司Web 结果磨抛技术. 磨抛样品. 方达新闻. 联系方达. 18926019828. 方达研磨从事硅片研磨机,硅片抛光机开发20年,对硅片的研磨和抛光工艺有较深的造诣,平面度厚度公差可达1um,粗糙度纳米级!
查看更多Web 结果阿里巴巴16B双面研磨机、双面研磨机、大型双面抛光机、硅片研磨机,研磨机,这里云集了众多的供应商,采购商,制造商。这是16B双面研磨机、双面研磨机、大型双面抛光机、硅片研磨机的详细页面。品牌:其他,型号:YM-16B-5,工作方式:高速万能研磨机,类型:专用研磨机。技术参数:上研磨盘尺寸 ... 16B双面研磨机、双面研磨机、大型双面抛光机、硅片研磨机 ...Web 结果阿里巴巴16B双面研磨机、双面研磨机、大型双面抛光机、硅片研磨机,研磨机,这里云集了众多的供应商,采购商,制造商。这是16B双面研磨机、双面研磨机、大型双面抛光机、硅片研磨机的详细页面。品牌:其他,型号:YM-16B-5,工作方式:高速万能研磨机,类型:专用研磨机。技术参数:上研磨盘尺寸 ...
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